高精度臺(tái)式快速涂布機(jī)
高精度臺(tái)式快速涂布機(jī)

特點(diǎn)

• 快速碳涂層制備：采用flash式蒸發(fā)法，能夠在短時(shí)間內(nèi)完成碳涂層的制備，減少了制樣時(shí)間。
• 節(jié)省碳棒：在蒸發(fā)作業(yè)時(shí)，無需對(duì)碳棒進(jìn)行研磨，節(jié)省了碳棒的使用。
• 均勻涂層：通過旋轉(zhuǎn)泵的排氣，確保試樣表面的碳粒粒子均勻分布，提高了涂層的均勻性。
• 前開門設(shè)計(jì)：前面門開閉式設(shè)計(jì)，便于試料的交換和操作。
• 多種涂層次數(shù)選擇：涂層次數(shù)可在1回至19回之間任意設(shè)定，滿足不同的涂層需求。
• 快速涂層時(shí)間：每次涂層時(shí)間僅為0.3秒，提高了工作效率。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

• 電子顯微鏡（SEM）和電子探針微分析（EPMA）的試料制備：適用于非導(dǎo)電性試料的表面處理，提高試料的導(dǎo)電性，便于進(jìn)行電子顯微鏡觀察。
• 高真空下的碳涂層制備：采用高真空下的flash式蒸發(fā)法，確保碳涂層的質(zhì)量。

特點(diǎn)

• 快速碳涂層制備：采用flash式蒸發(fā)法，能夠在短時(shí)間內(nèi)完成碳涂層的制備，減少了制樣時(shí)間。
• 節(jié)省碳棒：在蒸發(fā)作業(yè)時(shí)，無需對(duì)碳棒進(jìn)行研磨，節(jié)省了碳棒的使用。
• 均勻涂層：通過旋轉(zhuǎn)泵的排氣，確保試樣表面的碳粒粒子均勻分布，提高了涂層的均勻性。
• 前開門設(shè)計(jì)：前面門開閉式設(shè)計(jì)，便于試料的交換和操作。
• 多種涂層次數(shù)選擇：涂層次數(shù)可在1回至19回之間任意設(shè)定，滿足不同的涂層需求。
• 快速涂層時(shí)間：每次涂層時(shí)間僅為0.3秒，提高了工作效率。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

• 電子顯微鏡（SEM）和電子探針微分析（EPMA）的試料制備：適用于非導(dǎo)電性試料的表面處理，提高試料的導(dǎo)電性，便于進(jìn)行電子顯微鏡觀察。
• 高真空下的碳涂層制備：采用高真空下的flash式蒸發(fā)法，確保碳涂層的質(zhì)量。

特點(diǎn)

• 快速碳涂層制備：采用flash式蒸發(fā)法，能夠在短時(shí)間內(nèi)完成碳涂層的制備，減少了制樣時(shí)間。
• 節(jié)省碳棒：在蒸發(fā)作業(yè)時(shí)，無需對(duì)碳棒進(jìn)行研磨，節(jié)省了碳棒的使用。
• 均勻涂層：通過旋轉(zhuǎn)泵的排氣，確保試樣表面的碳粒粒子均勻分布，提高了涂層的均勻性。
• 前開門設(shè)計(jì)：前面門開閉式設(shè)計(jì)，便于試料的交換和操作

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• 多種涂層次數(shù)選擇：涂層次數(shù)可在1回至19回之間任意設(shè)定，滿足不同的涂層需求

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• 快速涂層時(shí)間：每次涂層時(shí)間僅為0.3秒，提高了工作效率

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技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

• 電子顯微鏡（SEM）和電子探針微分析（EPMA）的試料制備：適用于非導(dǎo)電性試料的表面處理，提高試料的導(dǎo)電性，便于進(jìn)行電子顯微鏡觀察

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• 高真空下的碳涂層制備：采用高真空下的flash式蒸發(fā)法，確保碳涂層的質(zhì)量

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