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    技術文章

    VACUUM DEVICE磁控濺射沉積設備的使用流程

    VACUUM DEVICE磁控濺射沉積設備的使用流程

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    產生等離子體的氣體

    氬氣主要用作真空設備中產生等離子體所必需的氣源。
    使用氬氣是因為它具有惰性,不易與其他元素發生化學反應,濺射率高。
    它的另一個特點是廣泛使用價格低廉的高純度氣體。

    第一次電離

    當在電極之間施加超過一定水平的電壓時,熱電子從陽極側發射。
    當這些熱電子與氬氣碰撞時,更多的電子在連鎖反應中一個接一個地被射出并電離,使氬氣變成正離子。這時,電離的電子在試圖恢復到原來的狀態時會發光。這就是等離子看起來有光澤的原因。

    磁控管等離子體狀態

    在等離子體中,預電離的氬原子、發射的電子和正電離的氬原子處于不穩定和混亂的狀態。 發射出的電子被磁控管的磁力線俘獲,一邊反復做圓周運動,一邊與氬氣分子一個接一個地反復碰撞。磁控管的濺射效率好,是因為電子被磁場捕獲,促進了氬氣的電離。 磁控濺射的等離子體局部明亮,因為那里磁場集中,經常發生電離。
    等離子體

    濺射

    正電離的氬氣被吸引到帶負電的靶表面并與其高速碰撞。
    靶材金屬粒子因與靶材的碰撞力而濺射而出。 噴射出的目標金屬顆粒在與氣體分子碰撞的同時到達樣品。 當金屬顆粒相互碰撞時,一些顆粒會生長。 將粉雪落在樣本上的圖像是個好主意。 最終到達樣品的金屬顆粒一個接一個聚集形成薄膜。 由于粒徑因金屬的種類而異,因此需要選擇適合的金屬來制作所需的薄膜。

    概括

    • 在等離子體中,氣體分子和負離子處于不穩定狀態。

    • 當電離的負離子試圖恢復到原來的狀態時發光。

    • 加上正離子與負靶碰撞。

    • 散落的目標金屬顆粒與氣體分子碰撞并聚集在樣品上。

    • 不同的金屬有不同的粒徑。


    相關產品介紹

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    超小型濺射設備
    對于光學顯微鏡,這是適合制作有光澤的 Ag 薄膜以及 SEM 和臺式 SEM 預處理的裝置。
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    20MT 配備φ100mm尺寸的靶電極的4英寸晶圓用濺射裝置。
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    設備特征目標金屬

    采用磁控靶電極實現了直徑200mm的大面積樣品臺,滿足更大尺寸MSP-8in硅基板的需求。更大的樣品臺可同時鍍膜8英寸晶圓和多個SEM樣品,提高檢測工作效率。

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    設備特征目標金屬
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    渦輪泵和隔膜泵可實現清潔的高真空。是一款價格低廉,性價比好的設備。
    沉積靶材:Au、Ag、Pt、Au-Pd、Pd、Cu、Cr、Pt-Pd、Ni、Fe、W、Mo、Ta、Ti、Al、ITO等。
    可以濺射各種金屬靶材。對于未列出的目標,請隨時與我們聯系。


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